【模擬授業開催・公開】第二回先端科学技術とイノベーション

プログラム 2012年11月8日 posted浅井 政美

平成25年度から開講される「イノベーションマネージメント・政策プログラム
(Innovation  Management and Policy Program)」の必修科目 「先端科学技術とイノベーション」
の第二回模擬授業を開講します。
一橋大学関係者の御参加をお願いします。
なお、一橋大学以外の参加希望者は、
所属、ご氏名を明記の上、asai@iir.hit-u.ac.jpまで、メールをお送り下さい。
参加可能の可否をご連絡いたします。





技術領域 半導体
半導体技術の歴史的な変遷と社会に与えた影響に関する知識を取得する。

 開催場所:一橋大学 イノベーション研究センター 2F 会議室

 第二回 125日(水) 13:30-16:30
  13:30-15:00  (講義:60分 質疑・議論:30分)

担当:中屋 雅夫 特任教授

講義の題名:

半導体産業発展とイノベーション

講義の概要:

1950年代の半ばに発生した半導体産業は、継続的に発展し、2011年には世界市場規模が約3,000USドルにまで拡大した。その間、多くのイノベーションが産業発展に寄与をし、それについて概観する。また、2000年代において、世界半導体市場は依然、拡大しているにもかかわらず、日本半導体産業が不振にあえいでいる原因について言及する。

  15:00-16:30 (講義:60分 質疑・議論:30分)

担当:中馬 宏之 教授
講義の題名:

半導体プロセス技術のR&Dネットワーク:High-k/Metal

Gateの事例から

  講義の概要:

   日本の半導体産業の地盤沈下が著しいが、それは最先端プロ

セス技術にも深く及んでいる。本講義では、その様子を明ら

かにするため、日米欧での聞き取り調査と社会ネットワーク

分析に基づいて、2000年前後で限界が明確になった旧来型

のシリコン酸化膜が2008年に新たに導入されたHigh-k

に変わっていく中で、日本企業が旧来の企業や国の境界をな

かなか超えられない状況下で競争力を低下させてきた構図を、

歴史的な視点をも踏まえながら、一目瞭然化する。

High-k/Metal Gate技術のDetailsの中に潜む一般原則の解

明に挑んでみたい。



以上

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